测量薄膜荧光

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使用 Ossila 光谱仪测量荧光（或光致发光）将使您能够检测样品在 360 nm - 1000 nm 之间的光发射。您可以使用光谱学作为一种快速简便的方法来表征样品中的荧光。但是，如果您想进行 PLQY 等定量测量，则需要积分球或更复杂的系统。

您的材料会向各个方向发出荧光，因此您可以通过多种方式设置光谱系统。选择设置时还需要考虑许多事项：

测量薄膜荧光时，必须考虑样品反射的入射光 - 特别是在使用光滑玻璃等镜面基板时。重要的是请注意，激发光也可能穿过您的样品，这也会影响您的测量。您还必须考虑您的样品会发出荧光，您可以承受损失多少这种强度。薄膜荧光设置：光谱仪、样品架、紫外光源和光纤。开始测量薄膜光谱 要测量薄膜的荧光，您需要一台光谱仪、一个固定的样品架和一个高能光源（例如紫外激光器或 Ossila 紫外光源）。我们还建议在模块化元件之间使用光纤电缆以减少信号衰减。您可以仅通过空气进行荧光测量；但是，您需要使用某种滤波器来去除激励信号。在这里，我们讨论了模块化元件的一些可能排列方式，以便对薄膜进行荧光测量。

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为了激发电子进入更高的能量状态，您必须将样品暴露在高能光源下。但是，当您测量薄膜时（尤其是当它们位于玻璃基板上时），您需要考虑激发光的透射和反射都可能影响您的测量。因此，您进行荧光测量的角度会对测量的光谱产生重大影响。

PFO 光致发光测量将因测量角度的不同而有很大差异。

上图显示了从 PFO 薄膜测量并沉积在石英基板上的荧光光谱。在这里，我们使用 Ossila 紫外光源（包含在 Ossila 光谱仪套装中）和 Ossila 4 端口光谱传输支架改变入射光和测量光之间的角度。我们还在每个元件之间使用光纤来提高信噪比。从该图中可以看出，测量的光谱在每个角度都大不相同。所有这些光谱都具有相同的测量变量，以便使它们具有可比性。

使用4口样品架测量PL：180度。

第一个测量角度我们尝试的角度是 180°，它是直接穿过样品的，就像您在测量吸光度时所做的那样。但是，您可以在光谱图中看到，该角度的任何荧光信号都被激发源（360 nm）淹没了。这解释了在 360 nm 处看到的大信号。您可以在插图中看到少量荧光。为了解决这个问题，我们增加了测量的积分时间；但是，我们很快收到了\"已达到强度信号阈值”的错误消息。如果您以此角度测量样品，则强度阈值必须较低以避免此错误。

使用4端口样品架测量PL：90度。

为了否定激发的传输信号，我们尝试以 90° 角进行测量e 到激发源。这种方法可以成功地减少激励信号，但您的测量仍然会被淹没。在这个角度，我们发现由于石英基板的反射，有大量的镜面反射（放大后可以在图上看到一些荧光）。但是，与 180° 排列的情况一样，您可以使用的积分时间受到强度警告的限制。

使用用于测量 PL 的 4 端口样品架：45 度。

我们发现进行荧光测量的理想角度是与激发源成 45°。在这里，反射量极小，并且由于激励信号水平低，我们可以增加积分时间以获得更高的信号强度并更准确地测量确定 PFO 荧光。您可以在上图中注意到所有这些。

下图显示了使用 Ossila 光谱仪、光纤、4 端口光谱样品架和紫外光源进行的优化荧光测量。

以 45° 角对 PFO 进行荧光测量，并优化设置。长通滤波器

另一种消除激发信号的方法是使用宽带滤波器。这些将使您能够以 180° 或 90° 配置设置样品，而不会使入射光源淹没光谱。长通滤光片（或长通边滤光片）仅传输特定波长以上的光。因此，您必须选择一个过滤器，在传输您的 me 时（尽可能完全地）去除您的激发源确定信号。将过滤器放在样品和光谱仪之间也很重要，这样您就可以首先激发样品。

薄膜使用滤光片设置荧光。

对于某些样品，这可能会带来问题。例如，当我们以 180° 角对 PFO 进行 PL 测量时，我们决定使用 495 nm 长通滤波器去除所有激发源痕迹。这成功地阻止了激励信号；然而，几个 PFO 峰（在 430 nm 和 460 nm）低于这个角度，因此从测量中被切断。

PL measurements taken 使用和不使用 Longpass 495 nm 滤光片。

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特约作者Mary O\'Kane

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